اینتل فرایند توسعه‌ی لیتوگرافی Intel 18A (کلاس ۱٫۸ نانومتر) و Intel 20A (کلاس دو نانومتر) را به پایان رسانده است. تامز هاردور می‌گوید این دو لیتوگرافی افزون‌بر پردازنده‌های اختصاصی اینتل، برای تولید پردازنده‌ی شرکت‌های دیگر نیز استفاده خواهند شد. اینتل از طریق کسب‌و‌کار Foundry Services خدمات تولید تراشه را به مشتریانش ارائه می‌دهد.
عدد لیتوگرافی که در واحد نانومتر بیان می‌شود، به ابعاد ترانزیستورهای استفاده‌شده در تراشه اشاره می‌کند. ترانزیستورها نسل‌به‌نسل تغییر ساختاری به خود می‌بینند تا عملکرد بهینه‌تری ارائه دهند؛ اما به‌طور کلی هرچه ابعاد ترانزیستور کاهش و تعداد آن افزایش یابد، پردازنده قدرت بیشتر و مصرف انرژی کمتری خواهد داشت.
وانگ روی، رئیس هیئت‌مدیره‌ی شعبه‌ی چین اینتل، می‌گوید لیتوگرافی‌های 18A و 20A هنوز برای تولید تجاری آماده نیستند. تکمیل فرایند توسعه بدین معنی است که اینتل تمامی مشخصات، مواد اولیه، پیش‌نیازها و هدف‌گذاری عملکرد را تعیین کرده است.
لیتوگرافی 20A اینتل مبتنی‌بر ترانزیستورهای RibbonFET است. در پردازنده‌های ساخته‌شده با این لیتوگرافی، واحدهای تحویل انرژی به بخش پشتی منتقل می‌شوند.
کاهش ابعاد ترانزیستورها، استفاده از معماری کاملاً جدید و انتقال واحدهای تحویل انرژی به بخش پشتی، اقدامی پرخطر برای اینتل است، اما اگر همه‌چیز طبق برنامه پیش برود، احتمالا تیم آبی پس از سال‌ها می‌تواند از بزرگ‌ترین رقبایش یعنی سامسونگ و TSMC پیشی بگیرد. اینتل قصد دارد در نیمه‌ی نخست سال ۲۰۲۴ سراغ استفاده از لیتوگرافی دو نانومتری برود.
لیتوگرافی 18A اصلاحاتی در ساختار و ابعاد ترانزیستور RibbonFET و سیستم تحویل انرژی اعمال می‌کند. فرآیند توسعه‌ی لیتوگرافی 18A به حدی خوب پیش می‌رود که اینتل رونمایی جزئيات آن را از سال ۲۰۲۵ به نیمه‌ی دوم ۲۰۲۴ منتقل کرده است.
اینتل می‌گوید لیتوگرافی 18A به هنگام ورود به مرحله‌ی تولید انبوه در نیمه‌ی دوم سال ۲۰۲۴، پیشرفته‌ترین لیتوگرافی صنعت تراشه خواهد بود. در حال حاضر پیشرفته‌ترین لیتوگرافی، نمونه‌ی سه نانومتری سامسونگ و TSMC است.
*تصویر اصلی مقاله، یکی از مدیران اینتل را با ویفر تراشه نشان می‌دهد. تراشه‌ها در ابتدا در قالب ویفر ساخته و سپس برش داده می‌شوند.
